刻蝕機和光刻機的區(qū)別 刻蝕機和光刻機的區(qū)別是什么
2020-02-28 天奇生活 【 字體:大 中 小 】
刻蝕機和光刻機的區(qū)別主要在:
1、工藝不同:刻蝕機是將硅片上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上;
2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。
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